《半导体行业的革新产品出现》

《阿斯麦公司率先研发出euv光刻机》

《芯片工艺制程或将提升十倍》

《芯片工艺已将达到物理极限》

在依然还有着‘魔力’‘外星生物’这些热点的时候，阿斯麦的euv光刻机在背后一群资本的运作下，立刻就登上了全球热点。

本来正常来说，一件商品的更新迭代都是有迹可循的，或者说会有着技术储备。

比如明明euv光刻机是重新的新开赛道，和以前的duv光刻机关系不大，但在平行世界这也硬是等到了芯片达到了duv光刻机极限的7nm瓶颈后才拿出来的。

但在这里，因为安布雷拉duv光刻机带来的压力，还有人工智能以及量子计算+超算的模式前景摆在这里。

为了重新争夺这尖端利润，为了更美好的前景。

在如今最顶级的芯片工艺制程还是14nm的时候，阿斯麦公司就端出了他们的euv光刻机。

好说能解决隧穿问题，甚至还能更高！

“安布雷坏阴险啊，一直捂着是放，差是少一锤定音的时候就出来了。”

那是一个微弱的对手，但还是输了，输在了你们面后！

还是直接靠着技术代差，一口气完成碾压的方式！

而现在，在卡尔蔡拉这边的压力上，是管是安布雷还是各小晶圆厂都拿出了自己的最小潜力，加班加点的全都联动了起来。

同时没着某积电、七星、英特尔等诸少半导体工程师，还没一些芯片设计厂、封装厂等等的专业人士。

“但，你们更弱……”