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临近年尾，孙健有许多大事要处理，不会为终审法院的判决而长吁短叹，昨天接到魏建国的电话，8英寸晶圆和500nm制程工艺光刻机在BSEC研制成功！

虽然在10月底就接到好消息，研发工程已经到了尾声，但真正接到确凿的消息，孙健还是很高兴的，当天就乘飞机来到京城，向全体研发人员表示祝贺，当场宣布公司拿出300万元，按照贡献大小，奖励全体研发人员。

从6英寸晶圆、800nm制程工艺光刻机到8英寸晶圆、500nm制程工艺光刻机是一道大坎，BSEC投资了8亿元，耗费了18个月！

一旦跨过，BSE、180nm制程工艺光刻机就相对容易一些。

因为邓国辉院士领导的光刻机光源研究所经过三年多的努力，7月14日，研制成功全球第一台浸没式193nm光刻机试验机，波长达到134nm，突破了193nm波长极限的世界性难题，因所用的光学系统是委托CarlZeissAG生产的，没有完全自主的知识产权，秘而不宣，等BSEC光刻机光学研究所研制的光学系统达到要求后，再申请公司发明专利。

从193nm干式光刻机到193nm浸没式光刻机，突破了193nm波长极限的世界性难题，是一种划时代的光刻技术。

前世90年代末，随着摩尔定律的继续演进，光刻机制程工艺从130nm进入90nm，晶圆尺寸也从8英寸升级到12英寸，但大家都没想到，半导体产业在193nm波长上卡了将近20年！

大家发现，干式193nm光刻机的极限制程工艺是65nm，再往下就很难实现了，如何突破65nm，跨入40nm制程工艺，成为阻挡在所有半导体厂商面前的拦路虎。